该技术是动、静态结合的高纯氮化硅粉体烧结工艺，其目的是使炉内反应气体保持一定的比例关系；提高控制精度，在静态时控制反应速度，动态时换气。该产品纯度高、颗粒细度小、比表面积大，烧结活性及烧结体的性能已达到国际水平：结晶相纯度α相＝95%，游离Si≤0.5%，Fe2O3≤0.1%，Ca0≤0.055，O≤1.5%，平均粒度D50≤0.35μm，粒径分布D90＝0.9μm，D99＝1.6μm，比表面积BET≥11.5m2／g，粒度与日本宇部兴产株式会社（UBE）粉相近，但是差别小且更易于胶态成型。该产品主要用于制造生产耐磨、耐高温工件，如用于机加工陶瓷刀具、耐热销、摩擦环、导弹雷达罩、轴承滚珠等。